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設備名稱：鈣鈦礦太陽能電池磁控濺射設備（鍍膜機+手套箱復合型）
設備型號：JCPS600
鍍膜方式：磁控濺射
真空腔室結構：SUS304方箱式，配有前、后門
真空腔室尺寸：L600×D600×H550mm
加熱溫度：室溫～300℃
基片臺尺寸：抽屜式：Φ320mm或210*210mm 可旋轉、升降
膜厚不均勻性：≤±5%（210mm×210mm范圍內）
蒸發源/濺射靶：4/6英吋靶：2-3只 DC/RF電源及偏壓電源
晶振膜厚監控儀：國產或進口（可選）
控制方式：PLC/PC控制（可選）
占地面積：L2100mm×W1300mm×H2100mm（不含手套箱）
總功率：≥15kW 三相五線制

1.國內技術**、市場占有率**，設計優化，性能穩定，使用維護成本低；

2.適用于磁控濺射與手套箱環境有機融合，實現制備、封裝、測試等工藝無縫對接，廣泛用于鈣鈦礦太陽能電池 /OPV 有機太陽能電池及 OLED薄膜等研究系統等。

3.磁控主要是濺射氧化鎳，制備空穴層，濺射ITO制備透明電極，濺射Cu，制備背電極